UV光解除臭裝置

工作機(jī)理:

UV光解是指廢氣成分在高能紫外線的作用下,逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物最終生成CO2、H2O及其他的離子如NOX、SO2等。有機(jī)物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指有機(jī)物分子吸收光能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)。后者是周圍環(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài),再誘導(dǎo)一系列有機(jī)污染的反應(yīng)。間接光降解對(duì)環(huán)境中難生物降解的有機(jī)污染物更為重要。

UV光解采用C-波段的紫外光,有足夠的能量來(lái)產(chǎn)生自由基,引發(fā)一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)。其中-C波段紫外線主要用來(lái)去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯、甲醛、丙酮、尿烷、樹(shù)脂、等氣體及消毒滅菌。

圖片4.png 

工藝特點(diǎn):

  高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物,以及其他惡臭氣體,脫臭凈化效率最高可達(dá)95%以上。

  無(wú)需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力,使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化,無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

  適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行極其穩(wěn)定可靠,但不適合高粉塵的現(xiàn)場(chǎng)。

  運(yùn)行成本低:本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作,無(wú)噪音,無(wú)需專人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

  無(wú)需預(yù)處理:惡臭工業(yè)廢氣無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作氣體溫度在攝氏-20℃~70℃之間,pH在3~11,濕度在30%~99%之間均可正常工作。


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